卓上型高温管状炉

装置名：

卓上型高温管状炉

（東京硝子器械製：FSR-430）

用途：

最高温度1500℃の管状電気炉。

回転チャンバー付き高周波誘導溶解炉

装置名：

回転チャンバー付き高周波誘導溶解炉

（SKメディカル製：MU-αIV）

用途：

回転チャンバーを備えた高周波溶解炉。真空中で溶解し、水冷鋳型にキャストすることで100g程度のインゴットが得られる。

高周波溶解炉

用途：

高周波誘導加熱により各種材料の溶解、単結晶育成を行うことができる。また、回転装置を装備しているため、溶融回転法による結晶粒界の作製も可能。
最高使用温度4000℃

真空電気炉

用途：

真空条件の下での熱処理を行うことができる。
最高使用温度約1000℃、RPとDPの2段で真空引きを行う。

焼成炉

装置名：

焼成炉
（モトヤマ製：SUPER-BURN SL）

用途：

セラミックス粉末の成形体などの焼結に用いる。
最高使用温度1600℃。大気炉

赤外線イメージ炉

装置名：

赤外線イメージ炉
（アルバック製）

用途：

赤外線による急速加熱が可能な熱処理炉。
試料を熱電対に直接溶接することで試料の温度により炉の温度を制御する。RPとターボポンプにより真空引きを行う。ガス置換も可能。

ブリッジマン炉

用途：

単結晶育成方法の一つであるブリッジマン法により単結晶育成が可能な熱処理炉。電気炉を移動させることにより、石英管内のモールドに入れた金属バルクを溶融し、単結晶化させる。